SIGMAKOKI シグマ光機株式会社

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透明セラミックス複合化技術を用いた薄膜シンチレータです。

◦同材料のシンチレータ(LuAG:Ce)と基板(無添加LuAG)を固相拡散接合することにより、接合界面で生じる光の散乱・反射を抑えた光学特性の高い薄膜シンチレータ(最薄5μm)を実現します。
◦200 nm Line & Space パターンを解像できる高い空間分解能に優れています。
◦X線に弱い接着層が無いため、高エネルギータイプのX線からも高耐久性が見込めます。
◦基板部がX線を遮蔽するため、後段レンズのX線損傷を抑えることができます。

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ご案内

▶量子効率や視野サイズに合わせたご希望の厚さ、外径サイズも製作を承ります。営業までお問合せください。
▶接合していない、蛍光体のみの販売も可能です。
▶X線イメージングユニットもご用意しております。

共通仕様

■X線耐久性(参考データ)

1ビームラインSpring-8 29XU(2018年)
X線エネルギー10 keV
照射面フラックス密度1.5x1013photons/s/mm2
シンチレータLuAG:Ce層5 μm、無添加LuAG層1mm
※数日間の連続照射後、画質に変化なし
2ビームラインSACLA BL3(2012年)
ショートレート10 keV
パルス幅10 Hz
照射面フラックス密度<10 fs
シンチレータ100μJ/mm2/shot (1.0x1012W/cm2)
※数日間の連続照射後、画質に変化なし
固相拡散接合 接合面

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■LuAG LuAG:Ce 接合面 SEM画像
【写真提供】
国立研究開発法人理化学研究所 放射光科学研究センター 亀島 敬様

LuAG:Ce 量子効率

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■LuAG:Ce X線エネルギに対する量子効率
【写真提供】
国立研究開発法人理化学研究所 放射光科学研究センター 亀島 敬様

5μm薄膜シンチレータ レンズ結像型X線イメージングユニットを用いた撮影画像

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X線照射条件
7.3 keV, 5.8 x 1012 photons/s/mm2
200 nm Line & Space を解像

ズーム

X線照射条件
16 keV, 1.8 x 1013 photons/s/mm2 200 nm Line & Space を解像
■放射形状サンプル
【写真提供】
国立研究開発法人理化学研究所 放射光科学研究センター 亀島 敬様
レンズ結像型X線イメージングユニット
■製品イメージ

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■原理

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■カスタム対応例/先端折り返し対応

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■カスタム対応例/極小スペース対応

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薄膜セラミックシンチレータ

   

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