SIGMAKOKI シグマ光機株式会社

アプリケーションシステム
レーザ加工
レーザプロセシングシステム Laser Processing Systems
高出力レーザ用シャッター

高出力レーザ用ミラーとビームディフューザにより光路を安全に遮断
仕様
品 番 SHPS-▢▢
価 格 [ ¥ ] 420,000
波 長 [ nm ] 266、355、532、1064
有効径 [ mm ] Φ8
対応出力 約20W
レーザ耐力 5J/cm2(@266nm)〜28J/cm2(@1064nm)
開閉速度 約200ms
バリアブルアッテネータ

PBSと波長板により高出力レーザの光量を連続可変
仕様
品 番 SVAB-▢▢A-08
価 格 [ ¥ ] 362,000
波 長 [ nm ] 266、355、532、1064
有効径 [ mm ] Φ4
対応出力 20W
レーザ耐力 1.0J/cm2(@266nm)〜5.1J/cm2(@1064nm)
透過率範囲 2〜93%(@532nm)
レーザビームエキスパンダーユニット

エアギャップのレンズ構成で高出力レーザに対応、
ディオプタ補正機構付きで厳密なコリメート調整が可能
仕様
品 番 BE/LBEDシリーズ
価 格 [ ¥ ] 42,000〜
波 長 [ nm ] 266、355、400〜700、1064
レーザ耐力 1.4J/cm2(@266nm)〜4J/cm2(@1064nm)
倍率 ×2〜×21(@400〜700nm)
入射有効径 [ mm ] φ1.7
オートフォーカスユニット

内蔵のレーザセンサ内蔵により、
ガラスやフィルムなどの透明体でも高速追従
仕様
品 番 TAF-SS-OBL-3
価 格 [ ¥ ] 要問合せ
対物レンズ 2×〜100×
カメラ CマウントCCDカメラ(素子サイズ2/3″以下)
移動量 3mm
トレース範囲
(追従可能範囲)
2×、5×、10×:±1.5mm
20× :±500μm
50× :±250μm
100× :±100μm
再現性(フォーカス) ±6.0μm(5×)、±1.0μm(10×)、
±0.5μm(20×、50×、100×)
面精度保証ミラー

ホルダ一体型で面精度を保証、ロック機構付きで組込みに最適
fθレンズ

各波長・走査エリア・焦点距離でラインナップ
対物レンズ

DUVから近赤外まで、各種加工用レーザに対応
鏡筒ユニット + レーザ導入ブロック

微細加工時の位置決めに最適な同軸落射照明の観察鏡筒
自動ステージ

精密高精度型から高剛性ロングストロークまで豊富なラインナップ
ベース

安定した性能を支える高剛性ベースシリーズ
ガルバノユニット

ジッタ・ウォブルを抑え高品質の高速レーザ描画

※各社ガルバノメータでのアセンブリに対応します。営業までご相談ください。